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          六氟丁二烯
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          • 六氟丁二烯

          六氟丁二烯

          化學(xué)式:C4F6

          純度規(guī)格:4N

          用途:刻蝕

          主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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          產(chǎn)品詳情

          六氟丁二烯主要應(yīng)用于大規(guī)模集成電路先進制程的刻蝕工藝,與傳統(tǒng)刻蝕氣體相比,六氟丁二烯刻蝕速率更快、選擇性和深寬比更高、環(huán)境更友好,在先進制程中應(yīng)用前景廣闊,公司生產(chǎn)的六氟丁二烯產(chǎn)品純度達4N,產(chǎn)品已進入客戶驗證階段。

          以品質(zhì)為基石,開拓全球市場

          目前,派瑞特氣公司擁有單條年產(chǎn)能超過3000噸的高純?nèi)獨怏w生產(chǎn)線,擁有高純六氟化鎢規(guī)?;a(chǎn)線,擁有三氟甲磺酸系列產(chǎn)品研發(fā)生產(chǎn)基地,建設(shè)了高純鎢制品中試生產(chǎn)線,實現(xiàn)了企業(yè)大宗制氣的技術(shù)突破,已成為國內(nèi)特氣行業(yè)產(chǎn)品系列豐富、生產(chǎn)能力大、市場覆蓋面和占有率高、持續(xù)創(chuàng)新能力強的企業(yè)。

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          推薦產(chǎn)品

          公司主要從事電子特種氣體及三氟甲磺酸系列產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,主要產(chǎn)品包括高純?nèi)?、高純六氟化鎢、高純氯化氫、高純氟化氫、高純四氟化硅、高純氘氣、高純六氟丁二烯、高純八氟環(huán)丁烷、高純電子混合氣等電子特種氣體,以及三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐、雙(三氟甲磺酰)亞胺鋰等含氟新材料。


          六氟化鎢

          化學(xué)式:WF6

          純度規(guī)格:6N

          用途:沉積

          主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


          氯化氫

          化學(xué)式:HCl

          純度規(guī)格:5N

          用途:清洗、刻蝕

          主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


          氦氮混氣、氙氫混氣、氧氦混氣、氪氖混氣、氬氙氖混氣等

          純度規(guī)格:6N

          用途:刻蝕、退火、光刻等

          主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、顯示面板、光纖


          三氟化氮

          化學(xué)式:NF3

          純度規(guī)格:5N

          主要用途:清洗、刻蝕

          主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 顯示面板